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极紫外（EUV）光刻市场：引领半导体制造新纪元
一、EUV 光刻技术简介
极紫外（EUV，Extreme Ultraviolet）光刻是当前半导体制造领域中最先进的光刻技术之一。它利用波长仅为 13.5 纳米的极短紫外光，在硅片上刻画出极其微小的电路结构。相比传统的深紫外（DUV）光刻技术，EUV 光刻能够实现更小的线宽、更高的分辨率，从而支持 7 纳米、5 纳米甚至 3 纳米制程芯片的量产。该技术的广泛应用，标志着芯片制造正式进入原子级精度时代。
二、市场概况与增长趋势
近年来，全球极紫外光刻市场持续保持强劲增长。受人工智能、高性能计算、自动驾驶、5G 通讯和物联网等新兴应用的推动，先进制程芯片需求激增，为 EUV 光刻市场注入了巨大动力。
根据行业预测，未来十年 EUV 光刻市场将以超过 20% 的年复合增长率持续扩张，预计到 2035 年市场规模将突破千亿美元大关。随着更多晶圆厂投入先进制程生产线，EUV 光刻设备的出货量和使用率都将显著提升。
三、市场主要驱动因素
先进芯片需求快速增长全球数字化进程加快，人工智能和云计算带来庞大数据处理需求，推动芯片设计不断向高性能、低功耗方向演进。EUV 光刻技术成为制造 5 纳米以下高密度芯片的关键手段。
资本投资与政策扶持各国政府纷纷推出半导体产业扶持政策，大力支持本土晶圆制造能力建设。大型代工厂如台积电、三星和英特尔也持续扩大资本支出，加速部署 EUV 光刻设备，推动市场快速增长。
技术创新推动产能提升随着光源功率、掩模精度、显影材料等关键技术的持续改进，EUV 系统的稳定性和生产效率大幅提高。同时，高数值孔径（High-NA）EUV 光刻机的研发将进一步提升图像分辨率，为 2 纳米及以下制程铺平道路。
亚太地区市场扩张显著中国大陆、台湾、韩国和日本等地已成为全球半导体制造的核心区域。这些地区晶圆厂数量众多，对 EUV 光刻设备的需求最为旺盛，是推动全球市场增长的重要力量。