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极紫外（EUV）光刻市场：引领半导体制造新纪元

一、EUV 光刻技术简介

极紫外（EUV，Extreme Ultraviolet）光刻是当前半导体制造领域中最先进的光刻技术之一。它利用波长仅为 13.5 纳米的极短紫外光，在硅片上刻画出极其微小的电路结构。相比传统的深紫外（DUV）光刻技术，EUV 光刻能够实现更小的线宽、更高的分辨率，从而支持 7 纳米、5 纳米甚至 3 纳米制程芯片的量产。该技术的广泛应用，标志着芯片制造正式进入原子级精度时代。

二、市场概况与增长趋势

近年来，全球极紫外光刻市场持续保持强劲增长。受人工智能、高性能计算、自动驾驶、5G 通讯和物联网等新兴应用的推动，先进制程芯片需求激增，为 EUV 光刻市场注入了巨大动力。

根据行业预测，未来十年 EUV 光刻市场将以超过 20% 的年复合增长率持续扩张，预计到 2035 年市场规模将突破千亿美元大关。随着更多晶圆厂投入先进制程生产线，EUV 光刻设备的出货量和使用率都将显著提升。